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          1. 太陽(yáng)能光伏行業(yè)
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            楊德仁院士:鑄錠單晶兼具多、單晶雙重優(yōu)點(diǎn) 或將大規模應用

            核心提示:鑄錠單晶是太陽(yáng)能硅材料重要的發(fā)展方向,希望鑄錠單晶技術(shù)在今后1-2年重新開(kāi)始大規模應用。
               “鑄錠單晶是太陽(yáng)能硅材料重要的發(fā)展方向,希望鑄錠單晶技術(shù)在今后1-2年重新開(kāi)始大規模應用,”11月8-10日,第十四屆CSPV大會(huì )在西安舉辦,中國科學(xué)院院士、硅材料國家重點(diǎn)實(shí)驗室主任楊德仁在報告中詳細闡述了鑄錠單晶的前世今生。會(huì )上,來(lái)自協(xié)鑫的長(cháng)晶技術(shù)總監胡動(dòng)力博士也在工業(yè)化應用的層面介紹了鑄錠單晶技術(shù)的進(jìn)展。他表示,在與直拉單晶實(shí)現同瓦輸出的情況下,鑄錠單晶硅片價(jià)格低0.3-0.4元/片,給客戶(hù)更高的性?xún)r(jià)比。
             
              “第三條路線(xiàn):鑄錠單晶兼具低成本和高效率”
            楊德仁院士:鑄錠單晶兼具多、單晶雙重優(yōu)點(diǎn) 或將大規模應用
              在《鑄造單晶硅材料的生長(cháng)和缺陷控制》報告中,楊德仁院士表示,十余年來(lái),多晶、單晶市場(chǎng)份額變化的鐘擺效應,是市場(chǎng)政策、技術(shù)發(fā)展共同作用的結果,兩種技術(shù)路線(xiàn)將會(huì )共存,誰(shuí)也不會(huì )簡(jiǎn)單消滅誰(shuí)。而第三種技術(shù)路線(xiàn)——鑄錠單晶,利用籽晶通過(guò)鑄錠的方法生長(cháng)出單晶硅,把兩種技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)結合起來(lái),既有低成本,低能耗,也有高質(zhì)量、高效率。
             
              “所以鑄錠單晶技術(shù)在過(guò)去十年以及最近得到了非常大的關(guān)注”,楊德仁院士表示,從1977年第一次在國外雜志上發(fā)表,到2006年轉換效率做到18%,再到2010年鑄錠單晶技術(shù)實(shí)際上已經(jīng)工業(yè)化應用,市場(chǎng)份額占到15%-20%。楊德仁強調,鑄錠單晶的優(yōu)勢在于電阻率更加均勻,比多晶增加1%以上的轉換效率,同時(shí)又保持了多晶的低光衰優(yōu)勢,光衰僅僅是直拉單晶的20%-30%。
            楊德仁院士:鑄錠單晶兼具多、單晶雙重優(yōu)點(diǎn) 或將大規模應用
              楊德仁院士同時(shí)指出,鑄錠單晶在過(guò)去一段時(shí)間面臨位錯密度、單晶率、材料利用率和籽晶成本等問(wèn)題挑戰,其中位錯是關(guān)鍵因素。“我們的研究團隊提出增加晶界的改進(jìn)方法,‘以毒攻毒’,可以有效的降低位錯。我們希望這樣的技術(shù)在今后1-2年重新開(kāi)始大規模應用”,楊德仁院士說(shuō)。
             
              “鑄錠單晶將贈送‘陽(yáng)臺’和‘飄窗’實(shí)現同瓦輸出”
             
              鑄錠單晶在2010年左右規模量產(chǎn),協(xié)鑫、LDK,昱輝都有大量出貨。近幾年來(lái),鑄錠單晶技術(shù)未能大規模應用,除了高效多晶等新技術(shù)的快速發(fā)展占領(lǐng)市場(chǎng)外,成本問(wèn)題也一直是主要的突破方向。
            楊德仁院士:鑄錠單晶兼具多、單晶雙重優(yōu)點(diǎn) 或將大規模應用
              “目前保利協(xié)鑫鑄錠單晶已經(jīng)發(fā)展到第三代產(chǎn)品,通過(guò)籽晶多次回用,籽晶成本下降60%”,在“晶硅材料技術(shù)與裝備”分會(huì )場(chǎng),保利協(xié)鑫胡動(dòng)力博士說(shuō),“此外,依靠G8大尺寸硅錠,薄硅片等方法,成本已經(jīng)進(jìn)一步下降。
            楊德仁院士:鑄錠單晶兼具多、單晶雙重優(yōu)點(diǎn) 或將大規模應用楊德仁院士:鑄錠單晶兼具多、單晶雙重優(yōu)點(diǎn) 或將大規模應用楊德仁院士:鑄錠單晶兼具多、單晶雙重優(yōu)點(diǎn) 或將大規模應用

            楊德仁院士:鑄錠單晶兼具多、單晶雙重優(yōu)點(diǎn) 或將大規模應用
             
              除了成本優(yōu)勢,胡動(dòng)力博士認為,保利協(xié)鑫鑄錠單晶硅片技術(shù)優(yōu)勢也比較顯著(zhù)。相比于直拉單晶15ppma,鑄錠單晶研發(fā)氧含量最低到2ppma,確保更低的光衰;硅片電阻率分布更窄,效率進(jìn)一步提升,與直拉單晶相差0.2%以?xún)取?/div>
             
              “鑄錠單晶將贈送‘陽(yáng)臺’和‘飄窗’”,胡動(dòng)力博士形象比喻道,“轉換效率差距可以用157.75mm的大尺寸硅片彌補。由于不存在缺角,鑄錠單晶硅片面積100%可利用,比直拉單晶面積大2%,與同尺寸直拉單晶硅片實(shí)現同瓦輸出。同時(shí),每片價(jià)格低0.3-0.4元,經(jīng)測算,選擇鑄錠單晶較直拉單晶收益高0.06元/W。高效鑄錠單晶組件(60片)可以封裝到310瓦。”
            楊德仁院士:鑄錠單晶兼具多、單晶雙重優(yōu)點(diǎn) 或將大規模應用楊德仁院士:鑄錠單晶兼具多、單晶雙重優(yōu)點(diǎn) 或將大規模應用
             
              胡動(dòng)力博士指出,大尺寸化和定制化是未來(lái)技術(shù)趨勢,鑄錠單晶能低成本實(shí)現166mm和長(cháng)方形硅片的定制化生產(chǎn),未來(lái)更具優(yōu)勢。對于三類(lèi)片的處理方法,胡動(dòng)力博士表示,利用濕法黑硅技術(shù),三類(lèi)片黑硅制絨效率較產(chǎn)線(xiàn)多晶黑硅片高0.21%,與多晶黑硅外觀(guān)幾乎一致,而且顏色更加均一。
             
              目前,保利協(xié)鑫鑄錠熱場(chǎng)工藝、高純坩堝、錠檢設備已經(jīng)全面升級,繼金剛線(xiàn)切黑硅片之后,鑄錠單晶硅片將成為對市場(chǎng)有重大影響的差異化產(chǎn)品。

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